武汉华星光电新专利提高显现作用透光不再留痕！
日期: 2025-04-21 作者: 钢格板
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1在显现技能的渐渐的提高中，武汉华星光电半导体显现技能有限公司再次发力，请求了一项名为“显现模组及显现终端”的新专利，旨在改进显现作用。依据金融界报导，国家知识产权局的信息数据显现，这项专利的揭露号为CN119654026A，请求日期为2024年11月。
这项新专利的中心思路在于其立异的显现模组规划，该模组由盖板主体、遮光层和显现面板构成。有必要留意一下的是，遮光层与盖板主体的互动方法，尤其是透光区的设置，成为了提高显现作用的要害。显现面板不只包含显现区，还涵盖了配置于其外围的非显现区。经过在非显现区的遮光层上规划多个“榜首孔”，光线可以顺畅透过，完成不影响显现画质的透光作用。这一行动成功处理了传统油墨印刷导致的显现模组上印痕显着的问题，极大提高了用户视觉体会。
创立于2016年的武汉华星光电，注册资本到达21亿元人民币，专心于计算机、通讯和其他电子设备的制作。依据天眼查的多个方面数据显现，该公司在招投标项目中到会504次，拥有约5000条专利和366个行政许可，展示了其在显现范畴的广泛影响力。
跟着科技快速的提高，显现技能的提高不只影响着产品质量，更将影响到咱们未来的生活方法。武汉华星光电这一专利的请求，显然是在为未来的显现技能铺平道路。回来搜狐，检查更加多
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